한·미 특허심사하이웨이의 시행으로 앞으로 한국에서의 미국 특허출원이 더욱 편리해지고 심사결과도 더 신속히 받을 수 있게 될 전망이다.

9일 특허청에 따르면 한·미 양국 특허청은 한·미 양국에 공통으로 제출된 특허출원으로서 어느 한쪽 국가에서 긍정적인 심사결과를 받으면 다른 국가에서는 해당 특허출원을 다른 것보다 우선해 심사하는 내용을 골자로 하는 '한·미 특허심사하이웨이'를 내년 1월 1일부터 시범 시행하기로 합의했다.

미국의 현행 평균 1차 심사처리기간은 22.6개월(지난해 기준)이며, 특허심사하이웨이를 이용, 출원인이 한국에서 미국으로 조기심사를 신청하는 경우 1차 심사처리기간이 최장 9개월 정도 소요되므로 13.6개월 더 빨리 심사를 받을 수 있게 된다.