하이닉스반도체가 내년 시설투자 규모를 2조3000억원으로 확정했다.

하이닉스는 해외법인을 포함해 2조3000억원의 시설투자를 계획하고 있다고 지난 24일 공시했다. 이같은 투자 규모는 올해 1조원에 비해 130% 늘어난 것이다.

특히 청주사업장의 M11의 투자가 본격 이뤄질 전망이어서 지역경제의 기대감이 높다.

지난 2007년 최첨단 신설 공장을 준공한뒤 반도체 경기침체로 투자를 미뤄오던 M11공장에 대한 설비투자가 본격화 돼 현재 월 4만5000만장(투입 원판 기준) 정도인 낸드플래시 생산 능력을 내년 말까지 두 배 수준으로 끌어 올린다는 계획이다.

이럴 경우 복층구조의 M11 청주공장의 경우 한 개 층의 설비투자가 거의 마무리될 것으로 내다보고 있다.

또 이에 따른 신규인력 채용 여부도 관심사다. 올해의 경우 신규 채용이 거의 없었기 때문에 하이닉스가 의욕적으로 투자한 M11의 본격 가동에 따른 인력 창출 등 지역경제 파급효과도 크게 기대되고 있다.

하이닉스의 전체적인 내년 투자 규모는 출혈경쟁의 여파가 절정에 달했던 올해 1조원보다는 1조3000억원 많지만 2006년 4조3000억원, 2007년 4조8000억원, 2008년 2조6000억원보다는 적다. 대규모 투자가 필요한 신규 라인 증설보다는 미세 공정 업그레이드 위주의 투자가 이뤄지는 영향이다.

미세 공정이 도입되면 동일 웨이퍼로부터 얻는 칩수가 늘어나 가격 경쟁력이 높아지고 생산 물량을 늘리는 효과가 있다.

투자는 주력인 D램의 40나노미터(㎚)대 공정으로의 업그레이드, 낸드플래시 생산 능력 확충, 연구개발(R&D) 등에 집중할 계획이다. 연구개발비는 매출액 대비 10% 선을 유지키로 했다.